要避免样品在扫描电镜（SEM）中受到辐射损伤，可以采取以下措施：

使用适当的工作距离：将电子束与样品之间的工作距离保持在较远的范围内。增加工作距离可以减少电子束对样品的辐射。

降低电子束电流：减少电子束的电流，以降低能量输入，从而减少样品的辐射损伤。

使用低电子束能量：选择较低的电子束能量，通常在1-5千伏之间，以减少电子束的穿透能力。

使用样品导电涂层：在非导电样品上涂覆薄薄的导电涂层，如金属薄膜，以提高导电性，减少充电效应。

控制扫描速度：降低扫描速度可以减少每个像素点的电子束暴露时间。

适当的冷却：对于易受热损伤的样品，可以考虑在SEM操作期间使用样品冷却系统，以减小样品温度。

限制分析时间：在分析中尽量减少电子束的暴露时间，避免过长时间的扫描。

使用低真空模式：在SEM中使用低真空模式可以减少电子束对样品的辐射损伤，因为低真空条件下电子与气体分子相互作用较少。

优化SEM参数：根据具体的样品和分析需求，优化SEM参数，以降低电子束对样品的影响。

进行先行实验：在正式实验之前进行一些试验性的SEM操作，以确定合适的参数，以减少样品的损伤。

定期检查样品：定期检查样品，确保没有明显的损伤或变化。

ZEM20台式扫描电镜

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