在扫描电镜（SEM）中，蒸发镀膜是一种常用的方法，用于在非导电样品表面形成导电涂层，以提高样品的导电性，以便在SEM观察期间获得更好的图像质量和信号。

下面是一般情况下的蒸发镀膜步骤：

准备样品：选择要进行蒸发镀膜的样品，并确保样品表面干净，无灰尘和污染物。

准备蒸发镀膜设备：将蒸发镀膜设备准备好，包括真空腔室、蒸发源、样品支撑架等。

放置样品：将样品放置在样品支撑架上，并确保样品与蒸发源之间的距离适当。

真空抽气：启动蒸发镀膜设备并进行真空抽气，以减少环境中的气体分子和水分。

加热蒸发源：根据所选择的蒸发材料（如金属），使用适当的加热方式（例如电阻加热或电子束加热）加热蒸发源，使其达到蒸发温度。

蒸发镀膜：一旦蒸发源达到蒸发温度，开始蒸发过程。蒸发的材料会以气态形式沉积在样品表面上，形成导电涂层。

控制蒸发时间和厚度：控制蒸发时间来控制涂层的厚度。通常，蒸发时间的控制可以通过调节蒸发源的加热时间或者控制蒸发源的电流或功率来实现。

冷却和凝固：在蒸发完成后，关闭蒸发源的加热，并等待样品和涂层冷却和凝固。确保涂层完全固化后再处理样品。

请注意，具体的蒸发镀膜步骤可能因不同的蒸发设备和材料而有所不同。在进行蒸发镀膜之前，建议阅读蒸发设备的操作手册，并遵循手册中的指导进行操作。另外，根据您的样品类型和SEM的要求，选择合适的蒸发材料（如金、铂、银、碳等）来制备导电涂层。

ZEM18台式扫描电镜

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