扫描电镜（SEM）能够实现对表面形貌的高分辨率成像，主要是通过以下原理和步骤：

电子束照射： SEM使用高能电子束照射样品表面。这些电子束通常具有几千至几十万电子伏特的能量。

反射和散射： 当电子束照射到样品表面时，样品中的原子会发生反射、散射和吸收。其中，二次电子（Secondary Electrons，SE）是非常重要的信号，用于生成表面形貌图像。

二次电子检测： 扫描电镜装置中包含检测器，用于探测样品表面反射的二次电子。这些二次电子的产生与样品表面的拓扑结构直接相关。

扫描成像： SEM使用电磁透镜系统和电子束扫描系统，能够在样品表面上进行高分辨率的扫描。通过在样品表面上扫描电子束并测量二次电子的信号，可以构建出高分辨率的表面形貌图像。

信号处理和图像重建： 通过对从样品表面反射的二次电子信号进行处理，可以生成图像。信号处理包括增强对比度、去除噪音等步骤。电子束的扫描轨迹和二次电子信号的采集与样品的拓扑结构直接相关，因此获得的图像具有高分辨率和表面拓扑信息。

低真空模式： 有时候，在低真空模式下工作可以增强对非导电样品的成像效果。在低真空条件下，电子束与气体分子相互作用，有助于减小充电效应，提高对绝缘体的成像效果。

ZEM20台式扫描电镜

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