在扫描电镜（SEM）成像中，样品表面的充电效应可能导致图像的失真和噪音。以下是一些减少或校正样品表面充电效应的常见方法：

导电涂层： 在样品表面涂覆导电性良好的薄层是常见的减少充电效应的方法。常见的导电涂层材料包括金属（如金或铂）或导电碳。这种涂层有助于在样品表面形成导电路径，减少表面电荷的积累。

金属导电胶： 使用金属导电胶连接样品和支撑基底，以确保电荷可以流动。这种方法适用于一些不适合涂覆导电薄层的样品。

样品处理： 有时，通过在真空中或惰性气氛中处理样品，可以减少样品表面的氧化和电荷积累。这种方法要求使用者在实验室环境中谨慎操作，以避免样品受到污染。

低电子能量： 使用低电子能量进行成像可以减少电子束与样品之间的相互作用，从而减少表面充电效应的影响。然而，这可能会降低图像的分辨率。

场发射电镜： 堆积电荷问题在场发射电镜中较少，因为它使用的是场发射电子而不是落在样品表面的电子束。

电子束抑制器： 一些先进的扫描电镜设备配备了电子束抑制器，可以通过向样品表面施加反电场来抑制电子束的影响，减轻充电效应。

ZEM18台式扫描电镜

以上就是泽攸科技小编分享的在扫描电镜成像中怎样减少或校正样品表面的充电效应。更多扫描电镜产品及价格请咨询15756003283(微信同号)。