扫描电子显微镜（SEM）是一种强大的显微镜，它使用电子束而不是光来照射样品，从而实现更高的分辨率。SEM中的二次电子探测是一种常见的显微镜技术，用于观察样品表面的拓扑和形貌特征。以下是SEM二次电子探测的基本原理：

电子束照射： SEM通过电子枪产生高能电子束，通常加速至数千伏到数十千伏的能量。这个高能电子束被聚焦成一个细小的束，并通过一系列的透镜和磁场来控制其方向和聚焦度。

样品表面交互： 电子束照射样品表面时，样品中的原子会与电子相互作用。这些相互作用包括电子散射、逸出电子、次级电子和背散射电子等。其中，次级电子是SEM二次电子探测的主要来源。

次级电子产生： 电子束与样品表面原子相互作用时，能量转移导致从样品表面释放出来的电子，这些电子被称为次级电子。这些次级电子是从样品表面深度相对较浅的区域产生的。

探测器收集： 一枚称为二次电子探测器的器件用于收集和检测从样品表面发射的次级电子。这个探测器通常位于SEM的侧面，靠近样品。

信号处理和成像： 探测器收集到的次级电子信号被放大、处理和转换成图像。通过扫描电子束在样品表面移动，可以获取样品表面的图像，这些图像显示了样品表面的拓扑、形貌和结构特征。

SEM二次电子探测的优点包括高分辨率、表面拓扑信息、深度穿透能力较低（通常在纳米尺度范围内），以及对导电和非导电样品都有较好的适用性。这使得SEM二次电子探测成为材料科学、生命科学、纳米技术和许多其他领域的重要工具，用于观察和研究微小结构和表面形貌。

ZEM18台式扫描电镜

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