泽攸科技小编上期带大家了解了扫描电镜为什么要喷金。那么样品导电膜的制备技术又有哪些呢？样品喷金又有哪些特点呢？扫描电镜扫描电镜喷金工艺都有哪些，下面泽攸科技小编继续为您介绍。

1、理想膜层的特点：

（1） 良好的导热和导电性能。

（2）在3-4nm分辨率尺度内不显示其几何形貌特点，避免引入不必要的人为图像。 

（3）不管样品的表面形貌如何，覆盖在所有部位的膜层需要薄厚均匀。

（4）膜层对样品明显的化学成分有干扰，也不显著的改变从样品中发射的X射线强

度。这层膜主要增加样品表面的导电性能和导热性能，导电金属膜层的厚度普遍电位在1-10nm。

2、扫描电镜喷金工艺 

在样品表面形成薄膜有多种方法，对于扫描电镜和X射线显微分析，只有热蒸发和离子溅射镀膜实用。

蒸发镀膜：许多金属和无机绝缘体在真空中被某种方法加热，当温升足够高，蒸发气压达到1.3Pa以上时，就会迅速蒸发为单原子。

离子溅射镀膜：高能离子或者中性原子撞击某个靶材表面，把动量释放给几个纳米范围内的原子，碰撞时某些靶材原子得到足够的能量断开与周围原子的结合健，并且被移位。如果撞击原子的力量足够，就能把表面原子溅射出靶材。

一般用钨丝篮作为电阻加热装置，把小于1毫米以下的金属丝缠绕在在其表面。就像在白炽灯灯丝上，或者电炉的加热丝上加上需要蒸发的金属；也有用加热坩埚，蒸发金属粉末。

优点：可提供碳和多种金属的镀层，镀层精细均匀，适合非常粗糙的样品，高分辨研究。可以喷碳（碳棒或碳绳），有利于对样品中非碳元素的能谱分析。非导电样品观察背散射电子图像，进行EBSD分析，也应该喷碳处理。

缺点：这种方法容易对样品产生污染，蒸发温度过高（例如碳的蒸发温度为3500K)，会损伤热敏感材料。

离子束溅射：氩气态离子枪，发射的离子，被加速到1-30kev，经过准直器或一个简单的电子透镜系统，聚焦形成撞击靶材的离子束。高能离子撞击靶材原子，原子以0-100ev的能量发射，这些原子沉积到样品与靶材有视线的范围内的所有表面。可以实现1.0nm分辨率镀膜。

二极直流溅射：是简单的一种。1-3kev

冷二极溅射：将二极直流溅射改进，用几个装置保持样品在整个镀膜过程中都是冷态。克服二极溅射的热损伤问题。采用环形靶材代替盘形靶；在中间增加一个永磁铁，并且在靶的周围加上环形极靴，偏转轰击在样品表面的电子。如果用一个小的帕尔贴效应的低温台，可以实现融点在30摄氏度的样品镀膜。

泽攸科技-ZEM15台式扫描电镜

以上就是泽攸科技小编介绍的扫描电镜喷金工艺。秉承操作便捷、快速成像、性能稳定的设计目标，泽攸科技自主研发了ZEM15台式扫描电镜，更多关于扫描电镜的问题请咨询18817557412（微信同号）。